碳化硅处理

什么是碳化硅 (SiC)?用途和制作方法 Arrow
2023年6月22日 碳化硅是怎么制成的? 最简单的碳化硅制造方法是在高达 2500 摄氏度的高温下熔化硅砂和碳(例如煤)。颜色更深、更常见的碳化硅通常包含铁和碳杂质,但纯 SiC 晶体是无色的,是碳化硅在 2700 摄氏度升华时形成的。2024年5月6日 碳化硅晶圆的制造流程涉及前驱体净化处理、高温高压下的化学反应生成固态碳化硅、定向生长以及后续加工等关键步骤。 这些步骤共同确保了碳化硅晶圆的高品 碳化硅晶圆:特性与制造,一步了解 ROHM技术社区

一文了解碳化硅(SiC)器件制造工艺 ROHM技术社区
2022年12月1日 实现碳化硅离子注入的方法 在碳化硅工艺制造过程中,典型的高能离子注入设备主要由离子源、等离子体、吸出组件、分析磁体、离子束、加速管、工艺腔和扫 2024年5月6日 碳化硅晶圆的制造流程涉及前驱体净化处理、高温高压下的化学反应生成固态碳化硅、定向生长以及后续加工等关键步骤。这些步骤共同确保了碳化硅晶圆的高品质制造。碳化硅晶圆因其高硬度、出色的耐磨性、高温稳定性、优异的电学性能、良好的透光性和抗辐射能力,在半导体和电子器件领域 碳化硅晶圆:特性与制造,一步了解 ROHM技术社区

碳化硅生产工艺中主要产生哪些污染物?如何防治污染?常见
2014年3月26日 碳化硅 生产过程中产生的问题: ①扬尘,土石方施工、建筑材料的运输和堆存会产生扬尘,对周围环境空气产生影响;②施工机械排放的尾气;③噪声,施工车辆、建筑机械运行和施工材料的碰撞产生噪声,影响声环境质量;④建筑垃圾,施工结束后建筑剩余的 2020年4月11日 碳化硅电子行业废水处理工程实例 李 朋,田宇鸣,马兴峰,周 伟,汤付军,曹向前 (江苏中电创新环境科技有限公司,江苏 无锡) 摘 要:随着我国半导体行业的快速发展,碳化硅电子行业企业也日趋增加,电子行业废水种类也越来越多,现阶段应 加快 碳化硅电子行业废水处理工程实例百度文库

碳化 硅晶片的高温退火处理 豆丁网
2015年3月17日 采用原子力显微镜,研究了退火处理对SiC晶片(0001)面表面形貌的影响,结果表明,高温退火处理对SiC晶片表面的结构存在着“刻蚀+碳化”的双重效应。 SiC晶片表面在高温下首先会发生刻蚀效应,形成半个至一个单胞高度的台阶结构,退火温度过高或退 2023年8月11日 黑碳化硅微粉是将黑碳化硅一级料经过气流磨破碎、再经酸碱化学处理、水洗、溢流分级等生产工艺加工的精细粉末,除了具有黑碳化硅本身优秀的热力学性能外,还具有高清洁度、粒度均匀、碳化硅纯度高、杂质少的优点。 黑碳化硅微粉的特性: 1黑碳化硅F240 表面处理用黑碳化硅

碳化硅SiC器件英飞凌(Infineon)官网 Infineon
2024年4月16日 我们不断在现有硅器件基础上进行碳化硅产品(包括沟槽技术领域革命性的CoolSiC™ MOSFET)的扩展。 如今,英飞凌可提供业界最全面的功率产品组合,从超低压到高压功率器件等不一而足。 我们不仅 2016年12月15日 经不熔化处理、高温烧成制备了拉伸强度为 21GPa,模量超 300GPa 的碳化硅短纤维。 PCS 不熔化纤维在高温烧成时会出现显著收缩,收缩率达 23% ,因此既要保持纤维的连续性,又要防止因急剧收缩(造成纤维内部缺陷)导致纤维力学性能降低,是制备连续 SiC 纤维的重要部分。复合材料的筋骨:连续碳化硅纤维 中国科学院宁波材料技术

表面改性碳化硅基底反射镜加工技术现状
2013年6月6日 摘要 摘要: 针对表面改性SiC基底反射镜在空间光学系统中的应用,总结了该类反射镜在国内外的研究现状。 概括了碳化硅基底反射镜的发展趋势。 介绍了常用的碳化硅材料,分析了它们的性质。 给出了几种常用的碳化硅镜坯制备工艺,包括成型、改性和不同 2023年8月11日 黑碳化硅微粉的用途: 1 研磨抛光:针对金属、铝合金、铜制品研磨抛光和玻璃、水晶、石材、玉石的研磨抛光。 2 磨具制品:生产各种研磨抛光砂纸、砂带、尼龙抛光轮、碳化硅研磨刷、海绵抛磨块等涂附磨具和钢纸砂盘、流体磨料、油石、磨刀石、金刚石砂轮等固结磨具。黑碳化硅F320 表面处理用黑碳化硅

一种碳化硅冶炼的废气回收工艺 百度学术
2017年2月23日 主权项: 1一种碳化硅冶炼的废气回收工艺,其特征在于,包括如下步骤:S1、将碳化硅密闭炉碳化硅废气接入到吸风机的入口,从而对碳化硅废气进行收集,将其通过管道经过吸附网,吸附碳化硅废气中油脂;S2、将S1中吸附后的废气通过管道进入热交换器进行降温,且将废气温度降至4050摄氏度 关于碳化硅冶炼尾气处理技术的探讨12方案的比较上述两大类三种常用方案,分别具有各自的特点:1 )尾气点燃后进行收集和处理的方案,只需要对碳化硅冶炼车间进行适当改造,不会影响原有的炉型、车间工艺布局和生产规模,改造成本和后期维护的 关于碳化硅冶炼尾气处理技术的探讨 百度文库

碳化硅的合成、用途及制品制造工艺
2020年6月10日 碳化硅是用天然硅石、碳、木屑、工业盐作基本合成原料,在电阻炉中加热反应合成。 其中加入木屑是为了使块状混合物在高温下形成多孔性,便于反应产生的大量气体及挥发物从中排除,避免发生爆炸,因为合成IT碳化硅,将会生产约14t的一氧化碳 (CO 2022年5月20日 徐天兵, 宋志键, 陈颖鑫, 孙亚光 碳化硅的制备及应用最新研究进展[J] Yang Y 等[4]采用空气中燃烧合成方法,并进行机械活化处理 ,成功地制备了 碳化硅的制备及应用最新研究进展 ResearchGate

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碳化硅主要由SiC组成,是耐腐蚀性优越陶瓷材料,可用在机械密封和泵零部件中。在高达1400 ℃的温度下,碳化硅仍能保持其强度。 碳化硅相关产品 特点 结构 性能 特点 在高达1400℃的温度下,碳化硅甚至仍能保持其强度。 这种材料的明显特点在于导热 碳化硅精密陶瓷(高级陶瓷)京瓷 KYOCERA

碳化硅晶圆:特性与制造,一步了解 ROHM技术社区
2024年5月6日 碳化硅晶圆的制造流程涉及前驱体净化处理、高温高压下的化学反应生成固态碳化硅、定向生长以及后续加工等关键步骤。这些步骤共同确保了碳化硅晶圆的高品质制造。碳化硅晶圆因其高硬度、出色的耐磨性、高温稳定性、优异的电学性能、良好的透光性和抗辐射能力,在半导体和电子器件领域 2014年3月26日 碳化硅 生产过程中产生的问题: ①扬尘,土石方施工、建筑材料的运输和堆存会产生扬尘,对周围环境空气产生影响;②施工机械排放的尾气;③噪声,施工车辆、建筑机械运行和施工材料的碰撞产生噪声,影响声环境质量;④建筑垃圾,施工结束后建筑剩余的 碳化硅生产工艺中主要产生哪些污染物?如何防治污染?常见

碳化硅电子行业废水处理工程实例百度文库
2020年4月11日 碳化硅电子行业废水处理工程实例 李 朋,田宇鸣,马兴峰,周 伟,汤付军,曹向前 (江苏中电创新环境科技有限公司,江苏 无锡) 摘 要:随着我国半导体行业的快速发展,碳化硅电子行业企业也日趋增加,电子行业废水种类也越来越多,现阶段应 加快 2015年3月17日 采用原子力显微镜,研究了退火处理对SiC晶片(0001)面表面形貌的影响,结果表明,高温退火处理对SiC晶片表面的结构存在着“刻蚀+碳化”的双重效应。 SiC晶片表面在高温下首先会发生刻蚀效应,形成半个至一个单胞高度的台阶结构,退火温度过高或退 碳化 硅晶片的高温退火处理 豆丁网